粉體行業在線展覽
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G1000
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G1000
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可實現高精度納米級薄膜包覆改性，專門為粉體材料研發制造，目前已廣泛應用于鋰電池正負極改性/催化劑改性/量子點/熒光粉等領域
原子層沉積（Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅體脈沖交替地通入反應腔體內并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術，具有自限性和自飽和。原子層沉積技術主要應用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無針孔、高保形的納米薄膜。
產品描述
廈門韞茂科技公司的GM系列自動粉末原子層沉積設備它可以在微納米粉體上實現均勻可控的原子層沉積或分子層沉積生長，GM1000的反應室可自動運行ALD(原子層沉積)或MLD(分子層沉積)，設備配有獨立控制的300℃完整加熱反應腔室系統，保證工藝溫度均勻。該系統具有**粉末樣品桶、動態粉末流化機構、全自動溫度控制、ALD前驅體源鋼瓶、自動溫度控制閥、工業級安全控制，以及現場RGA、QCM、臭氧發生器、手套箱等設計選項。是先進能源材料、催化劑材料、新型納米材料研究與應用的**研發工具。
主要技術參數
G100 Powder ALD 技術參數 Technical Specifications (ZrO2, LiNbO3, Al2O3, LPT, LiS等制備） | |
| 樣品**裝載量 Capacity | 100g(可根據需求定制, 也可放置3D基體及多片平片 |
| 樣品反應溫度 Heating | RT-300℃ |
| 前驅體 Max Precursor | **可包括2組反應氣體 8組液態或固態反應前驅體, Max 2 Gas and 8 Liquid/Solid Precursors |
| 前驅體加熱**溫度 Max Precursor Heating | RT-200℃ |
| 包覆均一性 Uniformity | <3% |
| 成膜速率 Deposition Rate | 1-2A/Cycle (Al2O3) |
| 臭氧發生器Ozone Generator | 可選配，生產效率15g/h |
| 人機界面 HMI | 全自動化人機操作界面 |
| 安全Safety | 工業標準安全互鎖Industry Safety Interlock，報警Alarm，EMO |
G1000 Powder ALD 技術參數 Technical Specifications (ZrO2, LiNbO3, Al2O3, LPT, LiS等制備） | |
| 樣品**裝載量 Capacity | 1000g(可根據需求定制, 也可放置3D基體及多片平片 |
| 樣品反應溫度 Heating | RT-300℃ |
| 前驅體 Max Precursor | **可包括2組反應氣體 8組液態或固態反應前驅體, Max 2 Gas and 8 Liquid/Solid Precursors |
| 前驅體加熱**溫度 Max Precursor Heating | RT-300℃ |
| 包覆均一性 Uniformity | <3% |
| 成膜速率 Deposition Rate | 1-2A/Cycle (Al2O3) |
| 臭氧發生器Ozone Generator | 可選配，生產效率15g/h |
| 人機界面 HMI | 全自動化人機操作界面 |
| 安全Safety | 工業標準安全互鎖Industry Safety Interlock，報警Alarm，EMO |
