粉體行業(yè)在線展覽
SiC外延爐
面議
電子科技
SiC外延爐
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1.晶片尺寸:4”~6”;
2.**溫度:1700℃;
3.控溫精度:±1℃;
4.極限真空:優(yōu)于3Pa;
5.壓力穩(wěn)定性:100~1000mbar;
6.反應(yīng)室漏氣率:1E-10Pa·m3/S
7.工藝氣體:SiH4、C3H8、N2、TMAl ;
8.載氣:Ar、H2 。
1.內(nèi)置式電磁感應(yīng)加熱,升降溫速度快
2.基片氣浮行星旋轉(zhuǎn)運動,溫度、外延膜均勻性好
3.三層水平層流送氣,氣流均勻性好
4.噴淋頭水冷,預(yù)反應(yīng)小
5.手套箱裝取片 ,反應(yīng)室內(nèi)潔凈度高
JRF 系列
真空退火爐/釬焊爐VTHK550
略
VSF-V 石英槽沉爐
氮化鋁粉體量產(chǎn)爐
碳化硅涂層CVD爐
蓄熱式熱力氧化RTO
厚膜燒結(jié)爐
RBC系列反應(yīng)燒結(jié)爐
中頻感應(yīng)爐
燒結(jié)爐(硬質(zhì)合金)
FZL(T)-360/17