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Bhadra?立式高溫氧化爐HBO150

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拉普拉斯

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Bhadra?立式高溫氧化爐HBO150

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產品介紹

Bhadra?立式高溫氧化爐HBO150

功能

1.高溫氧化工藝

2.DCE清洗去除可動離子作用和中高溫退火工藝

技術參數

適配晶圓尺寸：4，6寸

適用襯底材料：碳化硅

適用領域：功率半導體、襯底材料、科研

獲取更多信息，請訪拉普拉斯（廣州）半導體科技有限公司網站

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Bhadra?立式高溫氧化爐HBO150

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