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F2000 集成電路前道晶圓缺陷檢測設備

F2000 集成電路前道晶圓缺陷檢測設備

直接聯(lián)系

昂坤視覺(北京)科技有限公司

北京

產(chǎn)品規(guī)格型號
參考報價:

面議

品牌:

昂坤視覺

型號:

F2000 集成電路前道晶圓缺陷檢測設備

關注度:

956

產(chǎn)品介紹

晶圓缺陷檢測設備具有明場DIC、暗場和先進的AI技術。F2000可檢測裸片和外延片表面的顆粒和劃痕等缺陷。其性能與KLA SP1相當。該工具應用于HVM晶圓制造和IC Fab中各種前端工藝節(jié)點的檢測,以提高芯片生產(chǎn)的良率。

設備描述 Features 

晶圓搬運

EFEM: 6” / 8” SMIF or 12” FOUP

晶圓類型

不透明晶圓,如裸硅片、氧化物、氮化物等

晶圓翹曲

不大于100um

晶圓厚度

350um~1.5mm(在晶圓底部打開并夾持)

照明系統(tǒng)

斜入射暗場,微分干涉明場

非圖形化晶圓顆粒檢測靈敏度

51nm

檢測缺陷分類

Particle, scratch, pit, bump, Haze map

工藝節(jié)點

90,130nm


產(chǎn)品咨詢

F2000 集成電路前道晶圓缺陷檢測設備

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