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面議
1856
AFIXX 20m手動(dòng)系統(tǒng)
臺(tái)式系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于手動(dòng)將單個(gè)基板臨時(shí)粘合到剛性載體或其他載體上。適用于非常薄的易碎基材和柔性塑料材料。專(zhuān)為實(shí)驗(yàn)室開(kāi)發(fā)的臨時(shí)粘合技術(shù)。這是一個(gè)多功能系統(tǒng),非常適合許多R&D應(yīng)用程序。AFIXX 20m配備有加熱板,可將載體或基材加熱到200℃。
特點(diǎn):
適用于圓形晶圓片或方形基片;
基片尺寸:**到直徑200mm(直徑8英寸)或150x150 mm(6 x6英寸),圓形晶圓片可選:直徑300毫米(直徑12英寸);
帶加熱板,**200℃;
適用于非常薄的易碎晶圓(<40 um)和柔性塑料材料;
激光標(biāo)記可準(zhǔn)確對(duì)準(zhǔn)晶圓和載體;
手動(dòng)調(diào)節(jié)水平;
與硅,化合物和玻璃材料兼容;
專(zhuān)為研發(fā)和小批量生產(chǎn)而設(shè)計(jì);
應(yīng)用:
將基材臨時(shí)粘合到不同類(lèi)型的載體上:
基板上的基板
玻璃載體上的基板
藍(lán)寶石載體上的基板
陶瓷載體上的基材
不同的粘合劑,例如:
蠟>通過(guò)熱處理激活
粘合劑>受溫度和溶劑的影響,活化
產(chǎn)品參數(shù):
基板尺寸:**直徑200mm(直徑8英寸)或150x 150 mm(6 x 6英寸)
設(shè)備外殼:PP材質(zhì)
工作臺(tái)表面:微拋光不銹鋼和陽(yáng)極氧化鋁材質(zhì)
電源:230(110)VAC / 1Phase/ N / PE / 50(60)Hz
真空:-0.8 bar / -600 Torr,管外徑8 mm,內(nèi)徑6 mm
控制臺(tái):350x 350 x 372毫米(13.8 x 13.8x 14.6英寸)
加熱板模塊:350x 411 x 207毫米(13.8 x 16.2x 8.2英寸)
主營(yíng)產(chǎn)品:
Laurell勻膠機(jī)
Harrick等離子清洗機(jī)
Thetametrisis膜厚儀
Microxact探針臺(tái)
ALD原子層沉積系統(tǒng)
TRION反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
Uvitron紫外固化箱
NXQ紫外曝光光刻機(jī)
Novascan紫外臭氧清洗機(jī)
Nilt納米壓印機(jī)
Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板
Annealsys高溫退火爐
Kinematic程序剪切儀
Laurell EDC系統(tǒng),濕站系統(tǒng)
Wabash/Carver自動(dòng)壓片機(jī)
產(chǎn)品咨詢(xún)
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熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動(dòng)劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
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等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
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