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產品詳情

HFCVD 熱絲化學氣相沉積設備（熱絲CVD金剛石設備）-（生產型、實驗型）

研發設計制造了熱絲CVD金剛石設備，分為實驗型設備和生產型設備兩類。

設備主要用于微米晶和納米晶金剛石薄膜的研發和生產。可用于力學級別、熱學級別、光學級別、聲學級別的金剛石產品的研發生產。

可以制造大尺寸金剛石多晶晶圓片，用于大功率器件、高頻器件及大功率激光器的散熱熱沉。

可用于生產制造防腐耐磨硬質涂層；環保領域污水處理用的金剛石產品。

可用于平面工件的金剛石薄膜制備，也可用于刀具表面或其它不規則表面的金剛石硬質涂層制備。

可用于太陽能薄膜電池的研發與生產。

工件尺寸

圓形平面工作的尺寸：**φ600mm。

矩形工作尺寸的寬度1000mm/長度可根據鍍膜室的長度確定（如：工件長度1500mm）。

配置水冷樣品臺。

可單面鍍膜也可雙面鍍膜。

金剛石薄膜生產線

熱絲電源功率

可達300KW，1KW ～300KW可調（可根據用戶工藝需求配置功率范圍）

設備安全性

-電力系統的檢測與保護

-設置真空檢測與報警保護功能

-冷卻循環水系統壓力檢測和流量檢測與報警保護

-設置水壓檢測與報警保護裝置

-設置水流檢測報警裝置

熱絲CVD金剛石設備

設備構成

真空室構成

雙層水冷結構，立式圓形、立式D形、立式矩形、臥式矩形,前后開門，真空尺寸,根據工件尺寸和數量確定。

熱絲

熱絲材料：鉭絲、或鎢絲

熱絲溫度：1800℃～ 2500℃ 可調

樣品臺

可水冷、可加偏壓、可旋轉、可升降 ，由調速電機控制，可實現自動升降，（熱絲與襯底間距在5 ～ 100mm范圍內可調），要求升降平穩,上下波動不大于0.1mm。

工作氣路（CVD）

工作氣路根據用戶工藝要求配置：

下面氣體配置是某一用戶的配置案例。

H2(5000sccm，濃度100%)

CH4(200sccm，濃度100%)

B2H6（50sccm，H2濃度99%）

Ar(1000sccm，濃度100%)

真空獲得及測量系統

控制系統及軟件