粉體行業在線展覽
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高真空磁控濺射鍍膜機
直接聯系
卡喏科技（北京）有限公司
北京
面議
卡喏科技
高真空磁控濺射鍍膜機
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主要技術指標
●靶材數量：2-4個
●基片尺寸：2-8英寸
●基片臺轉速：5-30rpm，轉速連續可調
主要特點
●具有多個濺射靶，可沉積單層、多層薄膜、合金薄膜和摻雜薄膜；
●濺射方式：自下而上濺射、自上而下濺射可選；
●基片臺可加熱，可制備單晶薄膜；
●可選配輔助清洗離子源，有效提高薄膜的附著力；
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037
