粉體行業(yè)在線展覽
濕法刻蝕設(shè)備
面議
盛美半導(dǎo)體
濕法刻蝕設(shè)備
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智能工序功能 - 對于不同的金屬腐蝕工藝,如銅刻蝕后再進(jìn)行鈦刻蝕,可預(yù)設(shè)工藝菜單與工序后,在設(shè)備中一次完成。
先進(jìn)的噴嘴掃描系統(tǒng)
精確的藥液控制
藥液回收使用可減少成本
專注安全性
兼容8寸和12寸晶圓
*多可配至4個單片腔體
*多可配至5種藥液進(jìn)行雙面清洗工藝
*多可回收2種藥液
電鍍設(shè)備X
單片清洗設(shè)備
Post-CMP清洗設(shè)備
無應(yīng)力拋光設(shè)備
濕法去膠設(shè)備
濕法刻蝕設(shè)備
顯影設(shè)備
涂膠設(shè)備
電鍍設(shè)備A
PECVD設(shè)備
前道涂膠顯影設(shè)備
立式爐設(shè)備
磁控蒸發(fā)復(fù)合鍍膜機(jī)JCPF2600
TEM 熱、電、氣、液、冷凍樣品桿
X-300 X-FLUXER? 三位全自動熔片儀
合金分析儀
TZ-517D
SHM1000
其他
NAI-ZLY-4/6C
CX-100
EMC-1
HMYX-2000
EXAKT 80E