粉體行業(yè)在線展覽
高溫氧化爐
面議
賽瑞達(dá)
高溫氧化爐
618
SiC與GaN晶圓氧化工藝設(shè)備,工藝時(shí)間短,生產(chǎn)效率高,具有出色的工藝性能。
設(shè)備特點(diǎn)
◎ 型號(hào):OXIDE150
◎ 工藝溫度:1380℃~1500℃
◎ 工藝氣體:H?/N?O/NO/O?/Ar?/N?
◎ 工藝壓力:100mbr-Atmospher
◎ 晶圓尺寸:≤150mm
◎ 產(chǎn)能:25或50 片/批
◎ 正常UP Time:98%
◎ 全自動(dòng)化系統(tǒng)和MES服務(wù)
JRF 系列
真空退火爐/釬焊爐VTHK550
VSF-V 石英槽沉爐
氮化鋁粉體量產(chǎn)爐
碳化硅涂層CVD爐
蓄熱式熱力氧化RTO
厚膜燒結(jié)爐
RBC系列反應(yīng)燒結(jié)爐
中頻感應(yīng)爐
250727-7
燒結(jié)爐(硬質(zhì)合金)
YSJ-171212