粉體行業在線展覽
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電子束蒸發設備—E-Beam-HV
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合肥致真精密設備有限公司
安徽
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致真精密
電子束蒸發設備—E-Beam-HV
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電子束蒸發設備可以在高真空和超高真空環境下實現精確的多層薄膜制備。線性電子束槍可以實現多種材料的蒸發。設備可選配考夫曼離子源實現晶圓的預清洗，可用于超導量子等領域，適用于高校及企業研發和小規模生產場合。
性能參數
| 晶圓尺寸 | 4inch~8inch |
| 極限真空 | 優于1×10-7mbar |
| 溫控 | RT-800℃ |
| 電子束槍 | 多坩堝旋轉電子束槍，可選配坩堝數量和容量（標配，10KW，8×20cc） |
六大特色 懂你所需
企業/高校性能之選
測試案列
隨著超導量子計算的發展，高校實驗室和企業對于超導量子電路的核心器件——約瑟夫森結有著極高的制備要求。該設備可專門用于制備Al基、Nb基等各類約瑟夫森結，以下是制備的約瑟夫森結的光學照像。
約瑟夫森結的光學圖像
溫度測試
下圖是加熱臺溫度測試圖，加熱臺可以實現**800攝氏度的晶圓加熱，并且電子束蒸發過程中溫升較低，滿足不同材料的沉積需求。
觀察窗擋板
傾斜式高溫樣品臺
蒸發源
圓形互聯設備（外置機械臂、內置機械臂）
兩個鍍膜系統直接互聯設備
超高真空管道傳輸設備
晶圓真空傳輸平臺—VTM
量產型磁控濺射設備—MSI-200
生產型磁控濺射設備—MSI-100-UHV
生產型磁控濺射設備—MSI-100-HV
量產級多功能薄膜沉積設備
分子束外延設備—MBE-400
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
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