粉體行業在線展覽
SSB200小Mask系列曝光機
面議
上海微電子
SSB200小Mask系列曝光機
1303
產品特征
高精度
精密的光學系統和先進的測校等技術,保證設備高分辨率,支持新型顯示屏的高精度曝光。
低使用成本
較低的運營和維護費用:采用標準6英寸掩模(或其加長版),2倍放大成像,顯著降低掩模費用。
可拼接曝光大尺寸屏
采用精密的拼接策略,依靠優良的控制能力,可實現更大尺寸顯示屏幕的拼接曝光。
工藝適應性強
支持多種基板尺寸,可選配紅外等多種對準光源波長,適應各種曝光工藝工況。具有多達45片工位的掩模版庫,每片獨立版盒,對生產制造非常方便。
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
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Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
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定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037