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  產品特征

出色的污染防護

全折射式投影物鏡提供了超長工作距，以及封閉式的物鏡和照明系統，避免光刻膠等有機物揮發造成光路污染。

工藝適應性強

厚膠曝光時可通過調整NA來獲得更大焦深，支持高深寬比圖形曝光。擁有獨特的晶圓傳輸系統、垂向大行程工件臺系統和精密調焦調平系統，可支持Fan-Out制程中的大翹曲片、鍵合片和厚片曝光工藝。可選配紅外或可見光背面對準方式，支持TSV和MEMS等制程所需的背面對準。支持拓展至600mm×600mm方板曝光制程。

高精度

SSB500系列光刻機提供多種投影物鏡和曝光光源配置，分辨率可達到0.8~2μm，并具有高線寬均勻性。配置高精度MVS對準系統和低畸變投影物鏡，支持特征圖形標記和光柵標記，保證了高精度套刻性能。

高產率

SSB500系列光刻機配置了高照度照明系統、高速傳輸系統、高速高精度運動臺系統和大曝光視場，實現高產率，顯著降低客戶擁有成本。