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1200℃差溫蒸鍍沉積爐
面議
九所科技
1200℃差溫蒸鍍沉積爐
203
該設(shè)備主要用于材料科學(xué)、物理、化學(xué)等領(lǐng)域的實(shí)驗(yàn)研究。用于制備各種功能性薄膜和高性能材料。這些薄膜和材料在半導(dǎo)體、光電子、能源、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域都有重要應(yīng)用。
該設(shè)備采用高純石英元件,具有出色的高溫穩(wěn)定性,能夠在高溫環(huán)境下長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定運(yùn)行。采用先進(jìn)的溫度控制系統(tǒng)和可編程程序控溫技術(shù),可以精確控制每個(gè)溫區(qū)的溫度,確保實(shí)驗(yàn)過(guò)程中的溫度穩(wěn)定性和精確性。且系統(tǒng)采用高效的CVD沉積技術(shù),可以在短時(shí)間內(nèi)制備出高質(zhì)量的材料和薄膜。該設(shè)備還具有完善的安全保護(hù)功能,能夠有效地防止實(shí)驗(yàn)過(guò)程中可能出現(xiàn)的意外情況。并且可以根據(jù)客戶需求進(jìn)行擴(kuò)展和升級(jí),滿足不同領(lǐng)域的研究需求。
升降坩堝爐
1600℃自動(dòng)燒結(jié)沖壓成型爐
1200℃箱式電爐
1600℃箱式真空氣氛爐
1400℃-80管徑-管式電爐
流化床實(shí)驗(yàn)裝置
光加熱爐
1200℃小型臥式真空氣氛爐
1200℃間歇式旋轉(zhuǎn)爐
五路氣體控制柜(高氣壓均壓平流供氣裝置)
1200℃ 熱風(fēng)焙燒爐
1200℃差溫蒸鍍沉積爐
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動(dòng)劃片機(jī)
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037