粉體行業在線展覽
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M82300-3/UM型PECVD鍍膜設備
直接聯系
中國電子科技集團公司第四十八研究所
湖南
面議
電子科技
M82300-3/UM型PECVD鍍膜設備
600
PECVD鍍膜設備即等離子體增強化學氣相淀積設備，是利用高頻電源輝光放電產生等離子體對化學氣相沉積過程施加影響的技術。
M82300-3/UM型五管PECVD設備既可用于淀積電池片正面氧化硅減反射膜，也可用于淀積電池片背面鈍化膜。
硅片尺寸可從166mm兼容到220mm;
單管載片量可到680片，雙舟設計；
輔助加熱技術，可大幅改善工藝均勻性；
具備背面氧化鋁工藝能力。
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
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Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
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