粉體行業在線展覽
全自動晶圓背面打標設備
面議
江蘇元夫
全自動晶圓背面打標設備
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設備特點
兼容雙Loadport上料結構設計
全自動機器人上料
適用于各種材料,應用范圍廣
配備核心HBC,工藝高效
兼容高達10mm彎曲的軟晶圓片
整機精度:±50μm
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037