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A4-SRM系列反射式膜厚測量儀可用于測量半導體鍍膜等需要在很小的面積上測量膜厚的場合。通常面積可小于50um或20um。半導體需要測量silicon nitride,photoresist, polysilicon,oxide等在硅上的膜厚或silicon nitride和oxide等多層膜的厚度。我公司針對這一需求,已經推出多款滿足國內半導體,半導體封裝,平板顯示等行業需求的小光斑顯微膜厚測量儀,并已在國內多家半導體及相關廠商投入使用。我公司的小光斑顯微膜厚測量儀可以配200毫米(8英寸)和300毫米(12英寸)的工作臺和CCD攝像頭,配有多個物鏡,可使用放大倍數較小的物鏡進行目標查找,然后再使用較大物鏡進行測量。(如圖)