粉體行業在線展覽
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一體式垂直氣流碳化硅外延設備
直接聯系
芯三代半導體科技（蘇州）股份有限公司
江蘇
面議
芯三代
一體式垂直氣流碳化硅外延設備
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技術優勢
設備擁有完全獨立的自主知識產權，具有差異化的進氣方式、垂直氣流和溫場控制技術，輔以全自動上下料（EFEM）系統和高溫傳盤等手段，實現了全球優異的低缺陷等綜合技術指標和性能，在高產能、8/6吋兼容、CoO成本、長時間多爐數連續自動生長控制、低缺陷率、維護便利性、可靠性等方面都具有明顯的優勢。
工藝性能
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037
