粉體行業(yè)在線展覽
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危險(xiǎn)化學(xué)品檢測(cè)專用儀器
藥物檢測(cè)專用儀器
CD06-XS1C1D1A
面議
大族半導(dǎo)體
CD06-XS1C1D1A
533
主要特點(diǎn):
設(shè)備特點(diǎn):
1、占地小、穩(wěn)定性高、操作與維護(hù)方便
2、易于操作,界面友好
3、保養(yǎng)維護(hù)方便
主要參數(shù):
主要參數(shù) | 片盒數(shù)量 | 2CS |
wafer 類型 | 圓片 | |
wafer 尺寸(mm) | 50-150 | |
產(chǎn)能(WPH) | 50 | |
襯底材料 | Si、Glass、Sapphire、GaN、GaAs、SiC、LiTaO3、Li3PO4 | |
適用工藝 | g-line、i- line、PI |
6英寸半自動(dòng)刀輪切割設(shè)備
AOI濾光片檢測(cè)設(shè)備
Mini LED專用切割設(shè)備
半導(dǎo)體晶圓級(jí)分選編帶設(shè)備
碳化硅裂片機(jī)
12英寸半自動(dòng)刀輪切割設(shè)備
精密激光切割機(jī)
飛秒激光增強(qiáng)玻璃蝕刻通孔機(jī)(FLEE-TGV)
全自動(dòng)激光打孔機(jī)
12英寸雙軸全自動(dòng)刀輪切割設(shè)備
全自動(dòng)晶圓ID打標(biāo)設(shè)備
全自動(dòng)激光(IC)打標(biāo)設(shè)備
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動(dòng)劃片機(jī)
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037