粉體行業在線展覽
粉體行業在線展覽
真空升華提純爐 VDS40/80
直接聯系
研博智創任丘科技有限公司
河北
面議
研博智創
真空升華提純爐 VDS40/80
33
一、設備概述 1、適用范圍：廣泛用于高校、科研院所及企業的研發小批量生產。 2、產品特點：設備操作簡單、真空度高、溫區多、可通氣氛。 3、主要用途： 在成熟管式加熱爐基礎上，結合備提純物； 利用有機小分子材料物理特性及相關提純工藝研發的三溫區高真空升華提純爐。廣泛用于OLED等新型合成材料升華提純實驗和小批量生產之用，替代進口材料，節約材料成本；可用于電子陶瓷產品的預燒、燒結；高溫熱解低溫CVD沉積薄等。 二、技術參數
JGCF350金剛石顆粒鍍膜設備
粉體鍍膜涂層設備 JGCF650
真空升華提純爐 VDS40/80
真空電弧爐 VDK250
高真空退火爐 VTHK550
高真空退火爐 VTHK350
高真空電子束蒸發鍍膜機 TEMD500
高真空電子束蒸發鍍膜機 TEMD600
高真空有機/金屬蒸發鍍膜機 ZHDS400
高真空電阻蒸發鍍膜機 ZHD300
高真空電阻蒸發鍍膜機 ZHD400
高真空有機金屬蒸發鍍膜機ZHD350
