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高真空有機(jī)/金屬蒸發(fā)鍍膜機(jī) ZHDS400
面議
研博智創(chuàng)
高真空有機(jī)/金屬蒸發(fā)鍍膜機(jī) ZHDS400
40
一、整機(jī)簡述 特點(diǎn)/用途 ZHDS400型高真空有機(jī)/金屬蒸發(fā)鍍膜機(jī)是納米薄膜沉積系統(tǒng)與手套箱系統(tǒng)的有機(jī)結(jié)合,該設(shè)備可在惰性氣體保護(hù)的環(huán)境下完成裝片、裝料及換料取片等工作,并且由于采用惰性氣體的工作環(huán)境及無油真空系統(tǒng)使鍍膜機(jī)可更快的到達(dá)高真空,獲得潔凈的真空環(huán)境;本設(shè)備共配置4組蒸發(fā)源,組合配置靈活,具備單層蒸鍍、多源共蒸、分層鍍膜等功能。 蒸發(fā)鍍膜與手套箱環(huán)境無縫對(duì)接融合,實(shí)現(xiàn)蒸鍍、封裝、測(cè)試等工藝無縫對(duì)接,穩(wěn)定性更高。廣泛應(yīng)用于有機(jī)、無機(jī)鈣鈦礦太陽能電池、鋰電池及OLED薄膜等研究系統(tǒng);納米薄膜光電子器件制備及生產(chǎn)線前期工藝試驗(yàn)等。
二、設(shè)備主要技術(shù)參數(shù) 1.有機(jī)/金屬鍍膜室 鍍膜室尺寸:L400mm×W440mm×H450mm;SUS304不銹鋼制作,方箱式,配有前、后門,前門水平滑開式,材質(zhì)為鍛鋁,便于手套箱內(nèi)操作;后門為側(cè)開門,便于設(shè)備清理維護(hù);特點(diǎn):鍍膜室配置獨(dú)立機(jī)架,可在脫離手套箱條件下單獨(dú)調(diào)試和使用,與手套箱之間通過鍍膜室前門框密封連接,對(duì)接方便、密封可靠; 2.真空系統(tǒng) 復(fù)合分子泵+直聯(lián)旋片泵+高真空插板閥高真空系統(tǒng),“兩低一高”數(shù)顯復(fù)合真空計(jì); 3.真空指標(biāo) 極限真空:優(yōu)于5.0×10-5Pa;(設(shè)備和手套箱分體,設(shè)備空載抽真空24小時(shí)) 抽速:從大氣抽至8.0×10-4Pa≤40min; 設(shè)備升壓率:≤0.8Pa/h; 設(shè)備保壓:停泵12小時(shí)候后,設(shè)備真空度≤10Pa; 4.基片臺(tái) 抽屜式結(jié)構(gòu),承載小于120×120mm基片; 配有氣動(dòng)基片臺(tái)擋板; 基片臺(tái)電機(jī)驅(qū)動(dòng),旋轉(zhuǎn)速度0~20轉(zhuǎn)/分鐘可調(diào); 手動(dòng)升降,升降基片臺(tái)可調(diào)節(jié)范圍70mm; 可根據(jù)用戶要求定制掩膜板1套; 5.基片臺(tái)加熱 加熱溫度:300℃,PID智能溫控閉環(huán)控制; 6.蒸發(fā)源 ①金屬源:水冷銅電極2組; 逆變式蒸發(fā)電源:功率3000W;1臺(tái)(1臺(tái)電源可切換2組蒸發(fā)源); ②有機(jī)源:控溫有機(jī)蒸發(fā)源(溫度600°),2組; 有機(jī)蒸發(fā)源特點(diǎn):角度向心可調(diào)(提高材料利用率,均勻性好),蒸發(fā)速率可控; 有機(jī)控溫蒸發(fā)電源:2套(獨(dú)立PID智能溫控蒸發(fā)); ③蒸發(fā)源配氣動(dòng)擋板及源間防污隔板; 7.膜厚控制系統(tǒng) 選配 8.控制方式 采用PLC+觸摸屏半自動(dòng)控制; 9.報(bào)警及保護(hù) 對(duì)泵、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進(jìn)行報(bào)警并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施;完善的邏輯程序互鎖保護(hù)系統(tǒng)。 10.占地面積 L4800mm×W1600mm×H1900mm(含1.8米手套箱)
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