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一、整機簡述 其主要用途有： 1. 適用于鍍制低熔點金屬及合金材料薄膜，單層/多層/復合膜，例：銅、鋁、金、銀、鋇、鉍、鋅、銻等； 2. 適用于鍍制非金屬/化合物等材料薄膜；例：氧化鉬、氟化鋰等； 3. 適用于有機材料蒸發； 4. 適用于掃描電鏡制樣； 5. 適用于太陽能電池、LED的研究和實驗。 二、設備主要技術參數 1.真空腔室 Φ300×H360mm，304優質不銹鋼真空腔室； 2.真空系統 復合分子泵+直聯旋片泵+高真閥門高真空系統，數顯復合真空計； 3.真空極限 ≤8.0×10-5Pa；（設備空載抽真空24小時）； 4.漏率 設備升壓率：≤0.8Pa/h； 設備保壓：停泵12小時候后，設備真空度≤10Pa； 5.抽速 從大氣抽至5.0×10-3Pa≤13min；（設備空載）