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高真空電阻蒸發鍍膜機 ZHD400

高真空電阻蒸發鍍膜機 ZHD400

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研博智創任丘科技有限公司

河北

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參考報價:

面議

品牌:

研博智創

型號:

高真空電阻蒸發鍍膜機 ZHD400

關注度:

34

產品介紹

一、整機簡述 特點/用途 ZHD400高真空電阻蒸發鍍膜設備,配4組蒸發源;適用于實驗室制備金屬單質膜、半導體膜、鈣鈦礦太陽能電池、鋰電池、有機膜等,也可用作教學及生產線前期工藝試驗等。 該設備主機與控制一體化設計,PLC觸摸屏控制,操控方便,結構緊湊,占地面積小。設備廣泛應用于高校、科研院所的教學、科研實驗以及生產型企業前期探索性實驗及開發新產品等,深受廣大用戶好評。 其主要用途有: 1. 適用于鍍制低熔點金屬及合金材料薄膜,單層/多層/復合膜,例:銅、鎂、鋁、金、銀、鋇、鉍、鋅、銻等; 2. 適用于太陽能電池、LED的研究和實驗; 3. 適用于有機材料等蒸發; 4. 適用于鍍制非金屬/化合物等材料薄膜;例:氧化鉬、氟化鋰等; 5. 適用于掃描電鏡制樣等。 二、設備主要技術參數 1.真空腔室 304真空專用不銹鋼,L400×W440×H450mm;方形前開門結構; 2.真空系統 磁懸浮分子泵+直聯旋片泵+高真空擋板閥,“兩低一高”數顯復合真空計; 3.真空指標 極限真空優于6.6×10-5Pa(設備空載抽真空24小時); 設備升壓率≤0.8Pa/h; 設備保壓:停泵12小時候后,真空≤10Pa; 4.抽速 空載從大氣抽至8.0×10-4Pa≤45min; 5.基片臺 抽屜式結構,承載小于120×120mm基片;  電機驅動基片臺旋轉,旋轉速度0~20轉/分鐘可調; 手動升降,升降基片臺可調節范圍70mm ; 可根據要求定制1種掩膜板(客戶提供掩膜圖案); 6.基片臺加熱 加熱溫度:300℃,PID智能溫控閉環控制; 7.蒸發源 ①金屬源:水冷銅電極 2組; 逆變式蒸發電源,功率3000W; 1臺; ②有機源:有機蒸發源( 溫度600°),2組; 有機控溫蒸發電源:2套(獨立PID智能溫控蒸發); ③每組蒸發源配氣動擋板及源間防污隔板;

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高真空電阻蒸發鍍膜機 ZHD400

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