粉體行業在線展覽
高真空電阻蒸發鍍膜機 ZHD400
面議
研博智創
高真空電阻蒸發鍍膜機 ZHD400
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一、整機簡述
特點/用途
ZHD400高真空電阻蒸發鍍膜設備,配4組蒸發源;適用于實驗室制備金屬單質膜、半導體膜、鈣鈦礦太陽能電池、鋰電池、有機膜等,也可用作教學及生產線前期工藝試驗等。
該設備主機與控制一體化設計,PLC觸摸屏控制,操控方便,結構緊湊,占地面積小。設備廣泛應用于高校、科研院所的教學、科研實驗以及生產型企業前期探索性實驗及開發新產品等,深受廣大用戶好評。
其主要用途有:
1. 適用于鍍制低熔點金屬及合金材料薄膜,單層/多層/復合膜,例:銅、鎂、鋁、金、銀、鋇、鉍、鋅、銻等;
2. 適用于太陽能電池、LED的研究和實驗;
3. 適用于有機材料等蒸發;
4. 適用于鍍制非金屬/化合物等材料薄膜;例:氧化鉬、氟化鋰等;
5. 適用于掃描電鏡制樣等。
二、設備主要技術參數
1.真空腔室
304真空專用不銹鋼,L400×W440×H450mm;方形前開門結構;
2.真空系統
磁懸浮分子泵+直聯旋片泵+高真空擋板閥,“兩低一高”數顯復合真空計;
3.真空指標
極限真空優于6.6×10-5Pa(設備空載抽真空24小時);
設備升壓率≤0.8Pa/h;
設備保壓:停泵12小時候后,真空≤10Pa;
4.抽速
空載從大氣抽至8.0×10-4Pa≤45min;
5.基片臺
抽屜式結構,承載小于120×120mm基片;
電機驅動基片臺旋轉,旋轉速度0~20轉/分鐘可調;
手動升降,升降基片臺可調節范圍70mm ;
可根據要求定制1種掩膜板(客戶提供掩膜圖案);
6.基片臺加熱
加熱溫度:300℃,PID智能溫控閉環控制;
7.蒸發源
①金屬源:水冷銅電極 2組;
逆變式蒸發電源,功率3000W; 1臺;
②有機源:有機蒸發源(
溫度600°),2組;
有機控溫蒸發電源:2套(獨立PID智能溫控蒸發);
③每組蒸發源配氣動擋板及源間防污隔板;
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