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Elionix離子束刻蝕系統

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上海納騰儀器有限公司

日本

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面議

關注度:

1986

產品介紹

產品名稱:離子束刻蝕系統

品牌:Elionix

型號:EIS-200

關鍵詞標簽:離子束蝕刻,干法蝕刻,離子束轟擊,離子束減薄

簡短描述:(<40字):利用ECR技術產生高能Ar+離子束,Ar+離子束通過電場加速,對樣品進行物理的轟擊達到刻蝕作用。

一、簡介

EIS-200Elionix推出的一款基于電子回旋共振技術(ECR)的小型離子束蝕刻系統,特別適合于科研用離子束刻蝕、減薄,清洗、鍍膜等。

EIS-200原理:

利用ECR技術產生高能Ar+離子束,Ar+離子束通過電場加速到達樣品表面,對樣品進行物理的轟擊達到刻蝕作用。

EIS-200具有以下優點:

?方向性好,各向異性,陡直度高,側向刻蝕少

?分辨率高

?不受刻蝕材料限制,可對石英等材料進行蝕刻

?可控制蝕刻Taper

?可以設定多樣的實驗條件

二、主要功能

l主要應用

納米級圖案刻蝕

高深寬比蝕刻

表面清潔

離子減薄

l技術能力

離子槍

ECR型離子槍

離子化氣體

Ar、Xe等、惰性離子氣體

N2、O2、CF4等、活性離子氣體

加速電壓

100V3000V 連續可變(高加速電壓可選) (輸出電流20mA MAX)

離子束流密度

Ar:1.5mA/cm2以上 (2kV加速時)

O2:2.0mA/cm2以上 (2kV加速時)

離子束有效直徑

Φ20mmFWHM35mm)

離子束穩定度

±3/2H

大樣品尺寸

Φ4英寸

三、應用

納米級圖案刻蝕、高深寬比蝕刻、表面清潔、離子減薄等

?SiO2 on Si substrate

?Diamond Substrate(金剛石)

?Quartz (Mask)

?Oriented PET film

產品咨詢

Elionix離子束刻蝕系統

上海納騰儀器有限公司

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