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科研級磁控濺射設備—MS-400

科研級磁控濺射設備—MS-400

直接聯系

合肥致真精密設備有限公司

安徽

產品規格型號
參考報價:

面議

品牌:

致真精密

型號:

科研級磁控濺射設備—MS-400

關注度:

933

產品介紹

MS-400磁控濺射設備是一款多功能多靶磁控濺射系統,具有超高真空,單原子層沉積精度,設備維護簡單的特點。MS-400系統標配6個2inch共焦超高真空陰極,滿足實驗室或企業實驗室中工藝研究的需求,維護簡單,運行穩定。

性能參數

晶圓尺寸

4inch向下兼容

鍍膜均勻性

優于±2%

極限真空

優于1×10-9mbar(金屬密封)

優于1×10-8mbar(膠圈密封)

溫控

RT-800℃,可選**1200℃

陰極數量

6~7個2inch,共焦濺射

客戶案例1

通過本MS-400科研級磁控濺射,制備了具有強PMA的Mo基結構的單自由層和雙自由層MTJ磁隧道結薄膜。


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科研級磁控濺射設備—MS-400

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