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SiC襯底化學機械拋光機

CAP-H2

直接聯系

江蘇芯創微半導體技術有限公司

江蘇

產品規格型號
參考報價:

面議

型號:

CAP-H2

關注度:

106

產品介紹

名稱

CMP 化學機械拋光機

型號

CAP-H2

作業模式

干進干出

適用工藝

SiC 襯底拋光

對應產品

4~8inch

CMP table

2 pcs

Contour head

分區壓力控制

公司成立于2024年,是一家集機械設計、電氣研制、軟件開發、精密制造于一體的裝備制造商。創生源制造基地位于江蘇.宿遷, 分別在無錫、宿遷、太原設立分公司及工程研發中心,先后獲得6項***、41項實用新型**、20項軟件著作權,同時公司通過了ISO9001質量管理體系認證、GJB9001C武器裝備質量管理體系認證、ISO14001環境管理體系認證、ISO45001職業健康安全管理體系認證,榮獲國家高新技術企業、江蘇省民營科技企業等榮譽稱號。

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SiC襯底化學機械拋光機

CAP-H2

江蘇芯創微半導體技術有限公司

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