粉體行業在線展覽
wafer清洗機
面議
wafer清洗機
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名稱 | wafer清洗機 |
工藝段 | Cmp 后清洗 |
型號 | CAC-01 |
對應產品 | 4~8inch |
清洗方式 | 水平流片+PVA brush |
清洗工藝 | RCA 或定制 |
干燥方式 | SRD+N? |
傳輸方式 | Robot 進出 |
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037