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Primo nanova?12英寸刻蝕設備

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中微半導體設備（上海）股份有限公司

上海

產品規格型號

參考報價：

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品牌：

中微公司

型號：

Primo nanova?12英寸刻蝕設備

關注度：

141

產品介紹

Primo nanova?是中微基于電感耦合（ICP）技術研發的12英寸刻蝕設備。它可以配置多達六個刻蝕反應腔和兩個可選的除膠反應腔。其中刻蝕反應腔采用了軸對稱設計，具有高反應氣體通量。ICP發射天線采用了中微具有自主知識產權的低電容耦合3D線圈設計，可實現對離子濃度和離子能量的高度獨立控制。反應腔內部涂有高致密性、耐等離子體侵蝕材料，以獲得更高的工藝重復性和生產率。設備還采用了多區細分的高動態范圍溫控靜電吸盤，使加工出的集成電路器件的關鍵尺寸達到高度均勻性。Primo nanova適用于1X納米及以下的邏輯和存儲器件的刻蝕應用。

產品特點

低電容耦合3D線圈設計

高抽速大容量渦輪泵

精密的腔體溫控系統

先進的高致密性、耐等離子體侵蝕涂層工藝

多區細分的高動態范圍溫控靜電吸盤

阻抗可調聚焦環設計

切換式雙頻偏壓系統

可選的集成除膠反應腔

可選的Durga ESC

競爭優勢

離子濃度和離子能量獨立可控

高排氣量和更寬的工藝窗口

優秀的刻蝕均勻性

優異的高深寬比刻蝕性能

高生產效率，低生產成本（CoO）

獲取更多信息，請訪中微半導體設備（上海）股份有限公司網站

產品咨詢

Primo nanova?12英寸刻蝕設備

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