粉體行業在線展覽
PRISMO A7? MOCVD設備
面議
中微公司
PRISMO A7? MOCVD設備
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中微具有自主知識產權的MOCVD設備PRISMO A7?可配置多達4個反應腔,可以同時加工136片4英寸晶片或56片6英寸晶片,工藝能力還能延展到生長8英寸外延晶片。每個反應腔都可以獨立控制,這一設計可以實現優異的生產靈活性。
可獨立控制的反應腔運行模式
自主的實時監控系統
精準的參數控制
全自動化處理
符合半導體標準的軟件控制系統
Plasma Scrubber等離子式廢氣處理設備
VOC凈化設備
Preforma Uniflex? CW
PRISMO UniMax? MOCVD設備
PRISMO HiT3? MOCVD設備
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PRISMO D-BLUE?MOCVD設備
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Primo nanova?12英寸刻蝕設備
Primo TSV? 高性能、高產能的深硅刻蝕設備
Primo HD-RIE?新一代電介質刻蝕產品
Primo iDEA?雙反應臺刻蝕除膠一體機
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037