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PD-450/650Z直流等離子噴射化學(xué)氣相沉積設(shè)備
面議
普迪真空
PD-450/650Z直流等離子噴射化學(xué)氣相沉積設(shè)備
29
產(chǎn)品摘要
該設(shè)備主要用于開(kāi)發(fā)高品質(zhì)、大面積生長(zhǎng)金剛石厚膜產(chǎn)品主要用作砂輪修整工具坯料、拉絲模芯坯料、光學(xué)窗口、散熱襯底等工業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域。該系列設(shè)備廣泛應(yīng)用于高校、科研院所的教學(xué)、科研實(shí)驗(yàn)以及科技型生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實(shí)驗(yàn)及開(kāi)發(fā)優(yōu)質(zhì)金剛石厚膜新產(chǎn)品。
產(chǎn)品介紹
設(shè)備特點(diǎn):
★PLC+觸摸屏方式,完善的邏輯互鎖保護(hù)功能
★機(jī)架上方安裝紅外測(cè)溫儀固定裝置,固定測(cè)溫儀位置,可方便升降
★該設(shè)備可成功制備直徑達(dá)φ85mm厚度0.1-4mm大面積高質(zhì)量金剛石膜
設(shè)備參數(shù):
★真空腔室:圓柱型固定式真空腔體約為Ф400mm×H500mm/Ф650mm×H500mm
★生長(zhǎng)臺(tái):沉積臺(tái)為80mm,高度為110mm/沉積臺(tái)為100mm,高度為110mm
★抽速:從大氣抽至 1Pa≤20min
產(chǎn)品咨詢(xún)
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