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產品摘要

PD-400高真空蒸發鍍膜設備可配置4-6組蒸發源（可使用絲狀源與舟狀源），兼容金屬材料蒸發與有機材料蒸發（有機材料蒸發使用鎢籃與坩堝組合的蒸發源）。可用來制備金屬膜、有機膜及掃描電鏡制樣等。廣泛應用于高校材料、物理、化學、電子、能源等相關學科以及科研院所制備高質量功能薄膜、蒸鍍電極等，特別適合OPV 鈣鈦礦無機薄膜太陽能電池、半導體、OLED顯示研究與開發領域。

產品介紹

設備特點：

★性能**的蒸發電源；保證工藝穩定性及高重復性

★專業真空蒸發電源，恒流/恒功率控制。電流、功率可以預先設置，可實現一鍵啟動和停止的自動控制功能

★系統采用PLC+觸摸屏操作，整體美觀操作簡單，自動化程度高

★襯底可選擇加熱或水冷，源基距**350mm

設備參數：

★腔體尺寸（L×W×Hmm)：350×350×450

設備尺寸（L×W×Hmm)：850×1100×1900

★真空極限：優于（5E﹣05）Pa

抽速保壓：（8E﹣04）≤30min保壓12小時≤5pa

★膜厚均勻性優異（±3％~±5%），重復性優異（±3％~±5%）

★基片臺：120mm×120mm

★蒸發源：可搭配4～6組蒸發源（兼容金屬與有機），可共蒸或切換蒸發