粉體行業(yè)在線展覽
PD-500S/800S高真空蒸發(fā)蒸鍍設備
面議
普迪真空
PD-500S/800S高真空蒸發(fā)蒸鍍設備
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產品摘要
該設備可蒸發(fā)鍍金、銀、鈦、鉻、鉬、S1O2/ITO/AZO/氧化鎳等材料。兼容電子束后可蒸發(fā)高熔點材料如氧化硅、氧化鋁、氧化鈦、氧化鉿等。系統(tǒng)可集成電阻電子束、電阻蒸發(fā)、有機蒸發(fā)對接手套箱系統(tǒng)實現(xiàn)旋涂、鍍膜、測試等工藝流程在無水無氧手套箱環(huán)境下進行。
產品介紹
設備特點:
★機械泵前加裝過濾網,抽氣口加裝過濾網、百葉窗等防護件,氣路設計避免揚塵
★西門子PLC+觸摸屏手自動控制或電腦控制可選,完善的邏輯程序互鎖保護及異常報警
★自動控制蒸發(fā)源輸出,可選配共蒸發(fā)制備工藝
設備參數(shù):
★腔體尺寸(L×W×Hmm):500×500×600/800×700×700
設備尺寸(L×W×Hmm):1200×950×2000/1850×870×2100
★真空極限:優(yōu)于(3E﹣05)Pa
抽速保壓:(8E﹣04)≤20min保壓12小時≤5pa
★膜厚均勻性優(yōu)異(±3%~±5%),重復性優(yōu)異(±3%~±5%)
★基片臺:210mm×210mm/350mm×350mm
★蒸發(fā)源:可搭配4~8組蒸發(fā)源(兼容金屬與有機),可共蒸或切換蒸發(fā),可與電子束進行對接
PD-600Q射頻等離子清洗機
PD-500/600電子束真空蒸鍍設備
PD-400高真空蒸鍍設備
PD-400C高真空磁控濺射
PD-400S/450S高真空蒸鍍設備(手套箱)
PD-450CS/550CS高真空磁控濺射設備
ALD-100原子沉積設備
PD-500S/800S高真空蒸發(fā)蒸鍍設備
PD-60/80MP微波等離子體化學氣相沉積設備
PD-450/600H熱絲化學氣相沉積設備
PD-450/650Z直流等離子噴射化學氣相沉積設備
PD-500C/600C磁控濺射鍍膜設備
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037