粉體行業在線展覽
PD-500/600電子束真空蒸鍍設備
面議
普迪真空
PD-500/600電子束真空蒸鍍設備
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設備特點:
★進口雙導軌前滑動開門節省手套箱空間
★節約實驗室場地不占用手套箱以外空間
★西門子PLC+觸摸屏手自動控制或電腦控制可選,完善的邏輯程序互鎖保護及異常報警
★可搭配離子源進行表面清潔和離子輔助蒸鍍,也可搭配電阻蒸發源使用
★行星式工件架,公轉+自轉/穹頂式/自動翻面/平板式工件架可選,轉速可調
設備參數:
★腔體尺寸(L×W×Hmm):500×500×600mm/600×650×800mm
★真空極限:優于(3E﹣05)Pa
抽速保壓:(8E﹣04)≤30min保壓12小時≤5pa
★膜厚均勻性優異(±3%~±5%),重復性優異(±3%~±5%)
PD-600Q射頻等離子清洗機
PD-500/600電子束真空蒸鍍設備
PD-400高真空蒸鍍設備
PD-400C高真空磁控濺射
PD-400S/450S高真空蒸鍍設備(手套箱)
PD-450CS/550CS高真空磁控濺射設備
ALD-100原子沉積設備
PD-500S/800S高真空蒸發蒸鍍設備
PD-60/80MP微波等離子體化學氣相沉積設備
PD-450/600H熱絲化學氣相沉積設備
PD-450/650Z直流等離子噴射化學氣相沉積設備
PD-500C/600C磁控濺射鍍膜設備
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037