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PD-450CS/550CS高真空磁控濺射設備
面議
普迪真空
PD-450CS/550CS高真空磁控濺射設備
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產品摘要
該系列設備為鈣鈦礦太陽能電池、OLED、鋰電池、量子點LED、OPV等產業研發專用設備,設備可工藝制備納米級氧化物、氮化物、金屬等薄膜材料。該濺射系統對接手套箱系統實現全制備過程在無水無氧手套箱環境下進行。PVD與Glove box硬件無縫對接,操控融合一體,實現試驗樣品在真空手套箱環境中完成旋涂、濺射、測試等工藝流程。
產品介紹
設備特點:
★系統可選擇配備低氣壓濺射技術,制備薄膜致密,對基底損傷小
★J濺射腔體采用SUS304不銹鋼材料,腔體內表面包括屏蔽板全部鏡面拋光,可以獲得潔凈的工作環境和良好的真空度
★西門子PLC+觸摸屏手自動控制或電腦+PLC全自動控制可選
設備參數:
★腔體尺寸(L×W×Hmm):1500×850×1900/1500×850×1900
★設備尺寸(L×W×Hmm):440×440×450/550×440×450
★基片臺:**溫度 500℃ 控溫誤差±1℃
★真空極限:(2E﹣05)Pa
★抽速保壓:(8E﹣04)Pa≤20min保壓12小時≤5pa
★托盤均勻性優于±3%~±5%
★濺射靶可選取矩形靶(210mm×210mm/300mm×300mm)和圓形靶濺射尺寸
PD-600Q射頻等離子清洗機
PD-500/600電子束真空蒸鍍設備
PD-400高真空蒸鍍設備
PD-400C高真空磁控濺射
PD-400S/450S高真空蒸鍍設備(手套箱)
PD-450CS/550CS高真空磁控濺射設備
ALD-100原子沉積設備
PD-500S/800S高真空蒸發蒸鍍設備
PD-60/80MP微波等離子體化學氣相沉積設備
PD-450/600H熱絲化學氣相沉積設備
PD-450/650Z直流等離子噴射化學氣相沉積設備
PD-500C/600C磁控濺射鍍膜設備
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
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Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037