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蔭罩掩膜對準器 Shadow Mask Aligner

設(shè)備簡介：

本設(shè)備可以用于精確和可重建性的對準蔭罩掩膜和晶圓。可以放于真空腔體用于PVD工藝。沉積后，夾盤可以打開，晶圓和掩膜可以不破壞的分離，并且掩膜板可以重復(fù)利用。

夾盤可以用于任何基底尺寸以滿足用戶的要求，并且我們也可以提供精確和經(jīng)濟的由金屬、硅、玻璃、陶瓷等制造的蔭罩掩膜。

產(chǎn)品型號：SMA-100，SMA-150，SMA-200

晶圓和蔭罩尺寸：100mm，150mm，200mm，取決于設(shè)備的配置

樣品臺特征：

X和Y方向范圍：步進10μm，靈敏度2μm

Z方向范圍：步進10μm，靈敏度2μm

旋轉(zhuǎn)角度：360°不間斷

傾斜：工廠校準，工程師手動調(diào)節(jié)

對準精度（濺射后）

線性對準：典型值6μm， ZUI大值10μm

旋轉(zhuǎn)對準：0.001°到0.009°

夾盤

晶圓尺寸：100mm，150mm，200mm

夾盤材料：陽極氧化鋁或非陽極氧化鋁

夾盤厚度：20mm取決于晶圓和掩膜的厚度

蔭罩掩膜（客戶可定制蔭罩掩膜）

材料：硅、石英、玻璃、金屬、陶瓷

儀器尺寸：500mm x 250mm

安裝需求：用于對準過程中用來觀察的顯微鏡、真空

注：可以根據(jù)用戶的需求進行定制。

優(yōu)點：

精確和可重建性的PVD涂層構(gòu)建

用于PVD的減震夾盤

易用、對晶圓無損夾持機構(gòu)

由于真空夾持，可以在對準的過程簡單操作

可以用于不同的晶圓尺寸

不需要安裝

低運行成本