粉體行業(yè)在線展覽
粉體行業(yè)在線展覽
直接聯(lián)系
上海載德半導(dǎo)體技術(shù)有限公司
韓國
面議
1285
擴(kuò)散爐、低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備(LPCVD)
產(chǎn)地：韓國；
有單管和雙管兩個不同的型號，用于科研或者小規(guī)模生產(chǎn)。
性能和特點：
- 溫度范圍：500 ~ 1000攝氏度；
- 氣體混合能力(帶有質(zhì)量流量計)；
- 真空范圍：~ 10-6 Torr；
典型應(yīng)用：
- 無應(yīng)力氮化硅；
- LPCVD；
- 退火；
- 氧化；
- 其他...
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機(jī)
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037
