粉體行業在線展覽
PD-VCD真空閃蒸儀
面議
普迪真空
PD-VCD真空閃蒸儀
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產品摘要
VCD真空閃蒸儀一款一鍵式操作的桌面型設備,設備整體放置于手套箱內,腔體內部設有獨特氣氣流導向結構與樣品支撐,可實現快速抽真空,有利于有機溶劑快速揮發,輔助成膜結晶,對各種基板涂敷材料進行快速真空干燥、溶劑揮發,具有穩定性高、均勻性好、操作便利等優點。
產品介紹
設備特點:
★真空測量采用數字式全量程真空規管。控制系統采用觸摸屏設置參數,一鍵式操作。
★內部樣品托盤采用可拆卸式,配備吸氣環方便玻璃基片放置;在放置柔性基片和硅片時可采用吸氣板式托盤。
★腔體頂部設置DN100視窗,便于觀察樣品處理過程。
設備參數:
★樣品尺寸:210mm×210mm/300mm×300mm
600mm×600mm/600×1200mm **厚度30mm
★極限真空:0.1Pa
★抽空時間:10秒至5Pa
PD-600Q射頻等離子清洗機
PD-500/600電子束真空蒸鍍設備
PD-400高真空蒸鍍設備
PD-400C高真空磁控濺射
PD-400S/450S高真空蒸鍍設備(手套箱)
PD-450CS/550CS高真空磁控濺射設備
ALD-100原子沉積設備
PD-500S/800S高真空蒸發蒸鍍設備
PD-60/80MP微波等離子體化學氣相沉積設備
PD-450/600H熱絲化學氣相沉積設備
PD-450/650Z直流等離子噴射化學氣相沉積設備
PD-500C/600C磁控濺射鍍膜設備
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037