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真空回流焊

直接聯(lián)系

German First-Nano System 德國韋氏納米

德國

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產品介紹

真空回流焊：

Process environment	nitrogen， inert gas， formic acid， forming gas
Maximum temperature	450°C
Heating area	420 x 420 mm
Heating plate	removable: graphite， aluminum， etc.
Clearance above heating plate	60 mm
Heat up / cool down ramp	250°C/min
Control deviation	+/- 0.5°C
Heating elements	16x infrared heating lamps in two crossed rows
Heating control	individual/adjustable on every heating lamp
Cooling of heating plate	nitrogen flow
Temperature measurement	up to 4x thermocouples K-Type freely positional
Pressure measurement	full range over two gauges
Maximum vacuum	1x10-2 mbar (5x10-6 mbar with turbo pump)
Formic acid bubbler	40 ml container in front panel with auto refill
Cooling of chamber body	water/ethylene glycol mixture
Lid viewing port	80 mm with shutter
Display	7" LCD with touch screen
PC Software	process logging， recipe transfer， etc.
User interface	remote control over relay I/Os
Dimensions	see layout
Weight	280 kg
Power supply	3 phase， country specific

**客戶：

應用：

在真空和惰性氣體中加熱、散熱器上的功率半導體、倒裝芯片回流焊、凸點熔化、高強度LED連接、密封封裝密封、光伏電池組件、模具連接、印刷銅膜燒結、混合電路組件、扁平封裝封裝、微機電系統(tǒng)和光電器件封裝，汽車傳感器、高能電池等。

產品咨詢

真空回流焊

German First-Nano System 德國韋氏納米

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